JIB-4700F ระบบมัลติบีม
ความก้าวหน้าในการพัฒนาวัสดุใหม่ที่มีโครงสร้างนาโนที่ซับซ้อนทำให้ความต้องการเครื่องมือ FIB-SEM เพิ่มขึ้นสำหรับความละเอียด ความแม่นยำ และปริมาณงานที่ยอดเยี่ยม เพื่อเป็นการตอบสนอง JEOL ได้พัฒนา JIB-4700F Multi Beam System เพื่อใช้ในการสังเกตทางสัณฐานวิทยา การวิเคราะห์องค์ประกอบและผลึกของตัวอย่างที่หลากหลาย
คุณสมบัติ
JIB-4700F มีเลนส์ใกล้วัตถุทรงกรวยไฮบริด โหมด GENTLEBEAM™ (GB) และระบบตรวจจับในเลนส์เพื่อรับประกันความละเอียด 1.6 นาโนเมตรที่แรงดันไฟฟ้าเร่งต่ำ 1 kV การใช้ "ปืนอิเล็กตรอนแบบปล่อยประจุไฟฟ้าในเลนส์ Schottky" ที่ผลิตลำอิเล็กตรอนที่มีกระแสโพรบสูงสุด 300nA เครื่องมือที่พัฒนาขึ้นใหม่นี้ช่วยให้สามารถสังเกตการณ์ที่มีความละเอียดสูงและวิเคราะห์ได้อย่างรวดเร็ว สำหรับคอลัมน์ FIB จะใช้ลำแสง Ga ion ความหนาแน่นกระแสสูงที่มีกระแสโพรบสูงสุด 90nA สำหรับการกัดไอออนอย่างรวดเร็วและการประมวลผลของชิ้นงานทดสอบ
พร้อมกันกับการประมวลผลภาพตัดขวางความเร็วสูงโดย FIB การสังเกต SEM ที่มีความละเอียดสูงและการวิเคราะห์ที่รวดเร็วสามารถทำได้โดยใช้เครื่องเอ็กซ์เรย์สเปกโตรสโคปีแบบกระจายพลังงาน (EDS) และการเลี้ยวเบนของอิเล็กตรอนที่สะท้อนกลับ (EBSD) นอกจากนี้ ฟังก์ชันการวิเคราะห์สามมิติที่จับภาพ SEM โดยอัตโนมัติในช่วงเวลาที่กำหนดในการประมวลผลแบบตัดขวาง เป็นหนึ่งในคุณสมบัติมาตรฐานของ JIB-4700F
การสังเกต SEM ความละเอียดสูง
รับประกันความละเอียด 1.6 นาโนเมตรที่แรงดันไฟฟ้าเร่งต่ำ 1 kV โดยเลนส์ใกล้วัตถุทรงกรวยไฮบริดแบบแม่เหล็ก/ไฟฟ้าสถิต โหมด GB และตัวตรวจจับในเลนส์
วิเคราะห์เร็ว
การวิเคราะห์ที่รวดเร็วเปิดใช้งานได้ เนื่องจากสามารถรักษาความละเอียดสูงได้ในการวิเคราะห์ภายใต้กระแสโพรบขนาดใหญ่โดยการใช้ร่วมกับปืนอิเล็กตรอนแบบปล่อย Schottky ในเลนส์และเลนส์ควบคุมมุมรูรับแสง
การประมวลผลความเร็วสูง
คอลัมน์ลำแสง Ga ion กำลังสูงช่วยให้สามารถประมวลผลชิ้นงานทดสอบได้อย่างรวดเร็ว
ปรับปรุงระบบการตรวจจับ
ระบบตรวจจับพร้อมกันที่เกี่ยวข้องกับตัวตรวจจับในเลนส์ที่พัฒนาขึ้นใหม่ช่วยให้สามารถสังเกตภาพจากตัวตรวจจับสูงสุด 4 ตัวในแบบเรียลไทม์
ความเก่งกาจ
JIB-4700F ใช้งานได้กับอุปกรณ์เสริมที่หลากหลาย เช่น EDS, EBSD, ระบบถ่ายเทความเย็น, ขั้นตอนการทำความเย็น และระบบถ่ายเทอากาศแบบแยกอิสระ เป็นต้น
การสังเกต/วิเคราะห์สามมิติ
การแสดงภาพสามมิติของภาพและข้อมูลการวิเคราะห์เป็นไปได้ด้วยการผสมผสานกับ SEM ความละเอียดสูงและหน่วยวิเคราะห์ทางเลือกที่เหมาะสม
ฟังก์ชั่นการเชื่อมโยงเวที
ด้วยระบบเก็บตัวอย่างบรรยากาศ (อุปกรณ์เสริม) และฟังก์ชันการเชื่อมโยงเวที ทำให้สามารถหดตัวอย่าง TEM (กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องผ่าน) ได้อย่างง่ายดาย
ระบบภาพซ้อน
การซ้อนภาพด้วยกล้องจุลทรรศน์แบบออปติคัลจากระบบเก็บภาพบรรยากาศบนภาพ FIB ทำให้ระบุจุดประมวลผล FIB ได้ง่ายขึ้น
ลิงค์
ข้อบ่งชี้จำเพาะ
| SEM | |
|---|---|
| แรงดันไฟฟ้าเร่ง | 0.1 ถึง 30.0kV |
| ความละเอียดของภาพ (ที่ WD ที่เหมาะสมที่สุด) | 1.2nm (15kV, โหมด GB)
1.6nm (1kV, โหมด GB) |
| การอวดอ้าง | x20 ถึง 1,000,000
(มีโหมดLDF) |
| โพรบปัจจุบัน | 1pA ถึง 300nA |
| ตัวตรวจจับ (*ตัวเลือก) | LED, UED, USD*, เตียง*, TED*, EDS* |
| ขั้นตอนตัวอย่าง | ระยะโกนิโอมิเตอร์แบบ 6 แกนด้วยคอมพิวเตอร์
X: 50 มม., Y: 50 มม., Z: 1.5 ถึง 40 มม., R: 360°, T: -5 ถึง 70°, FZ: -3.0 ถึง +3.0mm |
| IBF | |
| แรงดันไฟฟ้าเร่ง | 1 ถึง 30kV |
| ความละเอียดของภาพ | 4.0 นาโนเมตร (30kV) |
| การอวดอ้าง | x50 ถึง 1,000,000
(x50 ถึง 90 ได้รับที่ 15kV หรือน้อยกว่า) |
| โพรบปัจจุบัน | 1 pA ถึง 90 nA, 13 ขั้นตอน |
| แปรรูปรูปร่างด้วยการกัด | สี่เหลี่ยม เส้น จุด วงกลม บิตแมป |
ดาวน์โหลดแคตตาล็อก
การใช้งาน
แอปพลิเคชัน JIB-4700F
การเปรียบเทียบวิธีการสร้างภาพ 3 มิติในกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนสำหรับวัสดุชีวภาพเช่น：(300KB)
ขอแนะนำกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราดด้วยความเย็น
รูปภาพ
สินค้าที่เกี่ยวข้อง
OmniProbe 350 Nano Manipulator ภายในห้องตัวอย่าง FIB-SEM
OmniProbe 350 ของ Oxford Instruments เป็นหุ่นยนต์นาโนที่มีความแม่นยำสูงและการทำงานที่ราบรื่น
การติดตั้งเข้ากับ JIB-4700F Multi Beam System ทำให้สามารถยกออกได้ในขณะที่สังเกตด้วย SEM และ FIB
กระบวนการเตรียมชิ้นงานทดสอบ TEM สามารถดำเนินการให้เสร็จสิ้นภายในห้องตัวอย่าง JIB-4700F
IB-07080ATLPS, IB-77080ATLPS ระบบการเตรียมตัวอย่าง TEM อัตโนมัติ STEMPLING
ระบบเตรียมตัวอย่าง TEM อัตโนมัติ STEMPLING เป็นซอฟต์แวร์สำหรับการเตรียมตัวอย่าง TEM อัตโนมัติโดยใช้ FIB ระบบนี้ได้รับการพัฒนาเพื่อตอบสนองความต้องการในการเตรียมชิ้นงานทดสอบโดยใช้ FIB เช่น การใช้งานง่ายที่ทุกคนสามารถทำได้ และเทคโนโลยีที่ช่วยให้สามารถสร้างชิ้นงานทดสอบจำนวนมากได้ เนื่องจาก STEMPLING จึงไม่จำเป็นต้องมีผู้เชี่ยวชาญระดับสูงในการเตรียมสิ่งส่งตรวจ ทำให้ทุกคนสามารถเตรียมสิ่งส่งตรวจได้อย่างง่ายดาย นอกจากนี้ เนื่องจากระบบอนุญาตให้เตรียมตัวอย่างหลายชิ้นโดยไม่ต้องดูแล ประสิทธิภาพการทำงานจึงสามารถเพิ่มประสิทธิภาพได้ผ่านการทำงานข้ามคืนเพื่อสร้างตัวอย่างจำนวนมาก
STEMPLING สามารถใช้กับ Multi Beam System JIB-4700F และระบบ Focused Ion Beam Milling & Imaging JIB-4000PLUS
ข้อมูลเพิ่มเติม
คุณเป็นผู้เชี่ยวชาญทางการแพทย์หรือบุคลากรที่เกี่ยวข้องกับการรักษาพยาบาลหรือไม่?
ไม่
โปรดทราบว่าหน้าเหล่านี้ไม่ได้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้ข้อมูลเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์แก่ประชาชนทั่วไป