JPS-9030 โฟโตอิเล็กตรอนสเปกโตรมิเตอร์

JPS-9030 มาพร้อมกับอินเทอร์เฟซผู้ใช้ที่ออกแบบใหม่ซึ่งช่วยปรับปรุงการทำงานให้ดียิ่งขึ้น และยังเปิดตัวการออกแบบภายนอกที่ล้ำสมัย ทันสมัย และโฉบเฉี่ยวอีกด้วย

คุณสมบัติ

การทำโปรไฟล์ความลึกที่ปรับให้เหมาะสมสำหรับแอปพลิเคชัน

แหล่งกำเนิดไอออนกัดกรดชนิด Kaufman ที่พัฒนาขึ้นใหม่ให้อัตราการกัดตั้งแต่ 1 นาโนเมตร/นาทีถึง 100 นาโนเมตร/นาที (SiO₂ เทียบเท่า) และอนุญาตให้ตั้งค่าได้หลากหลาย โปรไฟล์ความลึกเหมาะสำหรับการใช้งานใดๆ ตั้งแต่การวัดที่ต้องการความแม่นยำ ไปจนถึงกระบวนการที่ต้องใช้ความเร็ว การติดตั้งแหล่งกำเนิดไอออนกัดเซาะประเภท Kaufman กับห้องแลกเปลี่ยนชิ้นงานทดสอบช่วยป้องกันการปนเปื้อนของห้องตรวจวัด

ซอฟต์แวร์ที่พัฒนาขึ้นใหม่ช่วยให้ใช้งานง่ายยิ่งขึ้น

เวอร์ชั่น SpecSurf ตอนนี้ 2.0 รวม GUI แบบริบบิ้น ให้สภาพแวดล้อมที่เป็นมิตรกับผู้ใช้ซึ่งการดำเนินการทั้งหมดสามารถทำได้ด้วยเมาส์ ด้วยฟังก์ชันการวิเคราะห์เชิงคุณภาพอัตโนมัติของ JEOL ทำให้สามารถทำการวิเคราะห์เชิงคุณภาพ เชิงปริมาณ และเคมีตามลำดับสำหรับจุดได้มาหลายจุด

ความไวต่อพื้นผิวสูงเป็นพิเศษ

JPS-9030 รองรับเทคนิคต่างๆ เช่น Angle-Resolved XPS (ARXPS) และ Total Reflection XPS (TRXPS) และสามารถวิเคราะห์พื้นผิวด้านบนที่มีความไวสูงเป็นพิเศษที่ 1 นาโนเมตร (วิธีการวัดมาตรฐาน 6 นาโนเมตรขึ้นไป)

มีตัวเลือกมากมาย

แหล่งกำเนิดรังสีเอกซ์แบบเอกรงค์
แหล่งไอออนของคลัสเตอร์ก๊าซอาร์กอนที่เหมาะสมสำหรับตัวอย่างอินทรีย์
ระบบทำความร้อนด้วยอินฟราเรดที่มีอุณหภูมิสูงถึง 1,000 °C หรือสูงกว่า
เคลื่อนย้ายภาชนะเพื่อป้องกันตัวอย่างจากการสัมผัสกับบรรยากาศ

ข้อบ่งชี้จำเพาะ

ความรุนแรง (Mg Kα, เทียบเท่า 300W)	1,000,000 cps ขึ้นไป (ที่ Ag 3d5/2 FWHM คือ 1.0 eV)
แหล่งกำเนิดรังสีเอกซ์	Mg/Al แอโนดคู่
ระบบเลนส์อินพุท	เลนส์ไฟฟ้าสถิตทรงกระบอก
เครื่องวิเคราะห์พลังงาน	เครื่องวิเคราะห์ครึ่งวงกลมไฟฟ้าสถิต
วิธีการกวาดพลังงาน	พลังงานวิเคราะห์คงที่และอัตราส่วนหน่วงคงที่
เครื่องตรวจจับ	แผ่นหลายช่อง
ปืนไอออน	ปืนไออนชนิด Kaufman
แรงดันฐาน	7 × 10-8 ปะหรือดีกว่า
ระบบอบออก	เครื่องทำความร้อนในตัว, ระบบควบคุมอัตโนมัติ