JAMP-9500F สว่านเจาะกระแทกภาคสนาม Microprobe
ยกเลิก
เป็นอิเล็กตรอนสเปกโตรมิเตอร์ Auger สเปคสูงพร้อมเครื่องวิเคราะห์ครึ่งวงกลมเพื่อให้การวิเคราะห์ปริมาณงานสูงของสถานะพันธะเคมีที่พื้นที่นาโนถึงไมโคร และปืนอิเล็กตรอนแบบปล่อยสนามยังใช้สำหรับ EPMA เนื่องจากสามารถส่งกระแสไฟฟ้าขนาดใหญ่และมีเสถียรภาพได้ ขั้นตอนของชิ้นงานทดสอบยูเซนตริกที่มีความแม่นยำสูงทำให้สามารถวิเคราะห์ฉนวนที่เป็นไปไม่ได้ก่อนหน้านี้ เมื่อใช้ร่วมกับปืนไอออนแบบลอยตัวจะมีความอเนกประสงค์ในการจัดการกับชิ้นงานทดสอบ เช่น โลหะและวัสดุฉนวน เพื่อให้ได้ข้อมูลองค์ประกอบและข้อมูลทางเคมี
คุณสมบัติ
เครื่องวิเคราะห์ความไวแสงสูง・ความละเอียดสูง
การใช้เครื่องวิเคราะห์ที่มีความละเอียดพลังงานแปรผันทำให้สามารถวิเคราะห์สถานะพันธะเคมีในโหมดความละเอียดสูงได้ เช่นเดียวกับการทำแผนที่ความเร็วสูงในโหมดความไวสูง
ปืนอิเล็กตรอนแบบปล่อยประจุไฟฟ้าสนามชอตต์กี
ปืนอิเล็กตรอนที่ให้ทั้งการสังเกตภาพด้วยความละเอียดเชิงพื้นที่ 3 นาโนเมตร และการวิเคราะห์สถานะพันธะเคมีปริมาณงานสูงอันเป็นผลมาจากกระแสไฟฟ้าขนาดใหญ่สูงถึง 200nA สิ่งนี้เป็นไปได้โดยการผสมผสานเทคโนโลยีเลนส์อิเล็กตรอนที่ JEOL ได้พัฒนาขึ้นมาเป็นเวลาหลายปีด้วยปืนอิเล็กตรอนแบบปล่อยประจุไฟฟ้า Schottky ที่ใช้ใน SEM และ EMPA
ขั้นตอนของตัวอย่างยูเซนตริก
การนำสเตจยูเซนตริกมาใช้ ซึ่งจำเป็นสำหรับอุปกรณ์วิเคราะห์ที่มีระบบออปติกหลายระบบ ทำให้สามารถทำซ้ำศูนย์ที่มีความสูงได้อย่างแม่นยำสูง การเอียงเลือกได้อย่างอิสระสูงสุด 90° ทำให้การวิเคราะห์ฉนวนทำได้ยาก
Durability
ตามแนวคิดการออกแบบที่มีอายุการใช้งานยาวนาน ค่าใช้จ่ายในการดำเนินการที่เกี่ยวข้องกับการเปลี่ยนไส้หลอดปืนไอออนและตัวปล่อยปืนอิเล็กตรอนลดลง
ซอฟต์แวร์
การแยกสูงสุดของ Auger peaks ที่ทับซ้อนกัน ซึ่งทำให้นักวิเคราะห์ซ้ำเติม รวมถึงการวิเคราะห์สถานะพันธะเคมีที่ซับซ้อนสามารถทำได้ด้วยการคลิกเพียงครั้งเดียวโดยใช้ฟังก์ชันการแยกรูปคลื่น
ซอฟต์แวร์การปรับโครงสร้างแผนที่ช่วยให้สามารถวิเคราะห์ได้หลากหลาย เช่น การตั้งค่า P/B ใหม่หลังการวัด และการติดตามการเปลี่ยนแปลงเมื่อเวลาผ่านไประหว่างการผสานรวม
ข้อบ่งชี้จำเพาะ
ระบบส่องสว่างอิเล็กตรอน | |
---|---|
มติ SEI | 3nm (ที่ 25kV, 10pA) |
เส้นผ่านศูนย์กลางโพรบสำหรับการวิเคราะห์สว่าน | 8nm (ที่ 25kV, 1nA) |
ปืนอิเล็กตรอน | ปืนปล่อยสนามชอตต์กี้ |
แรงดันไฟฟ้าเร่ง | 0.5 ถึง 30kV |
โพรบปัจจุบัน | 10-11 ถึง 2×10-7A |
การอวดอ้าง | x 25 ถึง 500,000 |
ระบบวิเคราะห์สว่าน | |
วิเคราะห์ | เครื่องวิเคราะห์ครึ่งวงกลมไฟฟ้าสถิต (HSA) |
ความละเอียดพลังงาน (ΔE/E) | 0.05 ถึง 0.6% |
ความไว | 840,000 cps/7 ch หรือมากกว่า (ที่ 10 kV 10 nA Cu-LMN, ความละเอียด 0.6%, 60 เอียง) |
ระบบตรวจจับ | การตรวจจับหลายช่องสัญญาณ |
ปืนไอออน | |
พลังงานไอออน | 0.01 ถึง 4keV |
กระแสไอออน (กระแสดูดซับ) | 2 A ขึ้นไป ที่ 3,000 eV, 0.03A หรือมากกว่า ที่ 10 eV |
ฟังก์ชันการวางตัวเป็นกลาง | Built-in |
ขั้นตอนตัวอย่าง | |
การเคลื่อนไหวของตัวอย่าง | X: ±10 มม., Y: ±10 มม., Z: ±6 มม., T (เอียง): 0 ถึง 90, R (หมุน): 360 (ไม่มีที่สิ้นสุด) |
ขนาดตัวอย่าง | เส้นผ่านศูนย์กลาง 20 มม. (หนา 5 มม.) |
ระบบการอพยพ UHV | |
ความดันสูงสุดในห้องตัวอย่าง | 5 × 10-8ปะหรือน้อยกว่า |
เบเกอรี่ | เครื่องทำความร้อนในตัว อบอัตโนมัติ |
ซอฟต์แวร์ | |
ข้อมูลที่ได้มา | คลื่นความถี่, โปรไฟล์ความลึก โปรไฟล์ไลน์ ภาพสว่าน SEI (ภาพอิเล็กตรอนทุติยภูมิ) การวิเคราะห์ภาพบริเวณกว้าง (ไม่บังคับ), การวิเคราะห์กำหนดการ (ไม่บังคับ) |
การประมวลผลข้อมูล | การวิเคราะห์เชิงคุณภาพ การวิเคราะห์เชิงปริมาณ, ความแตกต่าง เรียบ การประมวลผลภาพ การป้อนข้อความ ซอฟต์แวร์ deconvolution สูงสุด (ตัวเลือก) |
ข้อมูลจำเพาะอาจมีการเปลี่ยนแปลงโดยไม่ต้องแจ้งให้ทราบล่วงหน้า
ขยาย
มีพอร์ตเพิ่มเติมเพื่อรองรับเอกสารแนบต่อไปนี้ ซึ่งสนับสนุนการวิเคราะห์ที่หลากหลาย
เวทีตัวอย่างขนาดใหญ่ (การสังเกตแบบเต็มสำหรับดิสก์ขนาดเส้นผ่านศูนย์กลาง 95 มม.)
หน่วยจอดรถตัวอย่าง
อุปกรณ์ทำความเย็นและแตกหักของตัวอย่าง
อุปกรณ์ทำความร้อนของชิ้นงานทดสอบ
เครื่องตรวจจับอิเล็กตรอนแบบกระจัดกระจาย
เอ็กซ์เรย์สเปกโตรมิเตอร์แบบกระจายพลังงาน (EDS)
หน่วยการเลี้ยวเบนกลับของอิเล็กตรอน (EBSD)
การใช้งาน
แอปพลิเคชัน JAMP-9500F
คอลเลกชันรูปภาพ Auger จากพื้นที่ที่กำหนด
การวิเคราะห์สถานะทางเคมีโดยใช้ AES
โปรแกรมจัดตารางการวิเคราะห์สว่าน
การวิเคราะห์สว่านของ CP Cross Section
ข้อมูลเพิ่มเติม
คุณเป็นผู้เชี่ยวชาญทางการแพทย์หรือบุคลากรที่เกี่ยวข้องกับการรักษาพยาบาลหรือไม่?
ไม่
โปรดทราบว่าหน้าเหล่านี้ไม่ได้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้ข้อมูลเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์แก่ประชาชนทั่วไป