UHV-SPM ของ JEOL ช่วยให้คุณได้รับข้อมูลพื้นผิวที่ถูกต้อง
คุณสมบัติ
เทคโนโลยีที่รองรับ SPM
สแกนเนอร์ที่ทำร่วมกันแบบเรียงซ้อน
ในฐานะที่เป็นสแกนเนอร์ซึ่งเป็นหัวใจของ SPM จึงใช้สแกนเนอร์โหมดการแชร์แบบเรียงซ้อนที่พัฒนาโดย JEOL ช่วยขจัดความผิดเพี้ยนของภาพที่เกิดจากการรบกวนระหว่างองค์ประกอบเพียโซ และเป็นไปตามข้อกำหนดสามประการเพื่อให้ได้ความถี่เรโซแนนซ์สูง นั่นคือ "พกพาสะดวก" "เล็ก" และ "น้ำหนักเบา"
ขั้นตอนตัวอย่าง
ขั้นตอนของชิ้นงานทดสอบซึ่งใช้เทคนิคที่เกี่ยวข้องกับ EM ที่มีความแม่นยำสูงที่สุดของ JEOL เป็นโครงสร้างรายการบนสุด โครงสร้างนี้ไม่เพียงแต่รวมเอาแนวคิดของการควบคุมนาโนเมตรของชิ้นงานทดสอบเท่านั้น แต่ยังรวมถึงแนวคิดเรื่อง
เวทีช่วยให้การสังเกต SPM มีความเสถียร ดังนั้นจึงแสดงประสิทธิภาพสำหรับการสังเกตไซต์ นอกจากนี้ พื้นผิวของชิ้นงานจะถูกเปิดออกมาก ทำให้สามารถเพิ่มฟังก์ชันใหม่ๆ ได้มากมาย
กลไกการเคลื่อนไหวหยาบ
กลไกเหล่านี้ต้องการการเคลื่อนไหวที่ดีที่สุดใน SPM ช่วยให้ทิปเข้าใกล้บริเวณนาโนเมตรได้อย่างปลอดภัยโดยไม่ทำให้ทิปไปโดนชิ้นงานทดสอบ สามารถย้ายทิปได้อย่างถูกต้องโดยอัตโนมัติด้วยมอเตอร์ขับเคลื่อนจากภายนอกสุญญากาศ
วงจรควบคุม
กระแสในอุโมงค์ที่ตรวจพบโดย SPM เป็นกระแสที่อ่อนของคำสั่งนาโนแอมแปร์ ทำให้จำเป็นต้องศึกษาปัญหาสัญญาณรบกวนอย่างต่อเนื่อง นอกจากนี้ วงจรป้อนกลับต้องมีความทนทานต่อการแกว่งอย่างเพียงพอ เทคนิคเหล่านี้เสร็จสิ้นจากการพัฒนากล้องจุลทรรศน์แบบส่องกราด ซึ่งมีผลกับ SPM ด้วย
วงจรควบคุมนี้สามารถใช้ได้ทั่วไปสำหรับ AFM
ระบบ WINSPM
ระบบ WINSPM เป็นระบบควบคุมและเก็บข้อมูลแบบบูรณาการที่พัฒนาขึ้นสำหรับกล้องจุลทรรศน์หัววัดแบบสแกน ไม่เพียงแต่ช่วยให้สังเกต SPM, lV, STS, AFM, Force-Curve และ LFM ได้เท่านั้น แต่ยังสามารถป้อนข้อมูลพร้อมกันและแสดงผลพร้อมกันได้ถึง 4 ช่องสัญญาณ นอกจากนี้ยังมาพร้อมกับฟังก์ชั่นการประมวลผลภาพมากกว่า 100 ฟังก์ชั่นและมากกว่า 30
ฟังก์ชั่นการประมวลผลกราฟิก ด้วยการใช้ MS-windows ทำให้สามารถเปลี่ยนเป็นแอพพลิเคชั่นอื่น (ประเภท TIFF) และเชื่อมต่อเครือข่ายได้อย่างง่ายดาย
ระบบ Window ที่ใช้งานง่าย
ซอฟต์แวร์ WINSPM ซึ่งทำงานบน MS-Windows มีสภาพแวดล้อมการทำงานของเมาส์เต็มรูปแบบ มาพร้อมกับ GUI เช่น ระบบเมนูและกล่องโต้ตอบ ทุกคนสามารถสั่งงานได้ง่ายๆ นอกจากนี้ยังมาพร้อมกับหน่วยความจำความจุสูง จึงสามารถทำงานได้อย่างราบรื่นแม้เปิดหน้าต่างหลายบานพร้อมกัน
แผงควบคุมเพื่อประสิทธิภาพการทำงานสูงสุด
ความง่ายในการทำงานของแผงควบคุมมีความสำคัญมากสำหรับการสแกน AFM และ SPM ระบบ WINSPM มีพารามิเตอร์ที่ใช้บ่อยซึ่งได้รับการคัดเลือกมาอย่างดีจากผลลัพธ์ที่ผ่านมา การตั้งค่าพารามิเตอร์ปลีกย่อยสามารถทำได้อย่างอิสระโดยใช้กล่องโต้ตอบ ฟังก์ชันต่างๆ เช่น STS, CITS และ LITHOGRAPHY มีให้เป็นมาตรฐานทั้งหมด
ฟังก์ชั่นการประมวลผลภาพมากมาย
ระบบ WINSPM มีฟังก์ชันการประมวลผลภาพมากกว่า 100 ประเภทที่พัฒนาขึ้นโดยเฉพาะสำหรับ SPM ซึ่งรวมถึงการแสดงผล 3 มิติ การทำโปรไฟล์ FFT การขยาย และการวิเคราะห์อนุภาค
ระบบ WINSPM มีจานแม่เหล็กเป็นมาตรฐาน ช่วยให้สามารถสำรองข้อมูลสำคัญที่ส่งออกข้อมูลไปยังเครื่องพิมพ์เลเซอร์หรือเครื่องถ่ายเอกสารสีได้เต็มรูปแบบ
ฟังก์ชั่นเสริมประกอบด้วยการเชื่อมต่อจอภาพที่สองซึ่งใช้สำหรับการแสดงภาพโดยเฉพาะ การส่งออกแบบเรียลไทม์ไปยัง VTR และการป้อนข้อมูลและการประมวลผลภาพจาก VTR
ระบบอพยพแยกอิสระ 3 ห้อง
ระบบการอพยพด้วยสุญญากาศสูงเป็นพิเศษประกอบด้วยห้องสามห้อง ซึ่งสามารถแยกออกจากกัน ดังนั้น ระบบจึงถูกสร้างขึ้นเป็นห้องมัลติทาสก์ซึ่งให้แต่ละห้องมีบทบาทตามลำดับ ในขณะเดียวกัน ระบบการอพยพนี้มีความสมดุลโดยรวมเป็นอย่างดี เพื่อให้มีสุญญากาศสูงเป็นพิเศษ
ระบบแยกการสั่นสะเทือน
ระบบแยกการสั่นสะเทือนเป็นปัจจัยสำคัญสำหรับ SPM ซึ่งมีความละเอียดระดับอะตอมหรือโมเลกุล การสั่นสะเทือนทางกลถูกแยกออกอย่างสมบูรณ์โดยการเชื่อมต่อโดยตรงกับห้องสุญญากาศและ SPM เข้ากับระบบแยกการสั่นสะเทือนแบบแขวนลอยด้วยอากาศแบบ gimbal-piston ซึ่งมีคุณสมบัติการแยกการสั่นสะเทือนในแนวตั้งและแนวนอนที่ยอดเยี่ยม และยังใช้ SPM พื้นฐานในการสั่นแบบแฮตสแต็คบนสุด กลไกซึ่งแยกการสั่นสะเทือนทั้งแนวนอนและแนวตั้ง
ฟังก์ชั่นเพิ่มเติมมากมาย
สิ่งที่ทำให้ระเหิด
สิ่งนี้ใช้เพื่อดูดระเหยตัวอย่างที่มีอะตอมแตกต่างจากอะตอมของตัวอย่าง มีเส้นผ่านศูนย์กลาง 70 มม. สองตัว พอร์ตที่หันเข้าหาชิ้นงานทดสอบ มีการเตรียมการสำหรับการระเหยจากด้านล่างที่มุม 40° และการระเหยสามารถทำได้โดยไม่ทำให้ส่วนอื่นปนเปื้อนนอกเหนือจากชิ้นงานเนื่องจากแหล่งกำเนิดไอออนถูกปรับให้ใกล้เคียงกัน
อุปกรณ์ทำความร้อน
การให้ความร้อนกับชิ้นงานทดสอบเป็นฟังก์ชันที่ขาดไม่ได้สำหรับการทำความสะอาดชิ้นงานทดสอบและสำหรับการวิจัยการเปลี่ยนเฟสที่อุณหภูมิสูงและโครงสร้างพื้นผิว นอกจากนี้ MBE ยังต้องการฟังก์ชันเพื่อให้ความร้อนแก่ชิ้นงานทางอ้อม อุปกรณ์ทำความร้อนได้รับการพัฒนาเพื่อตอบสนองความต้องการเหล่านี้ ไม่เพียงช่วยให้ชิ้นงานกระพริบเท่านั้น แต่ยังช่วยให้สังเกตชิ้นงานได้ในขณะที่ให้ความร้อนด้วย
อุปกรณ์ระบายความร้อน
เช่นเดียวกับการให้ความร้อนกับชิ้นงาน การทำให้ชิ้นงานเย็นลงก็จำเป็นเช่นกันสำหรับการวิจัยการเปลี่ยนสถานะของสาร...ในกรณีนี้ภายใต้อุณหภูมิต่ำ มีประสิทธิภาพอย่างยิ่งสำหรับการสังเกตวัสดุตัวนำยิ่งยวดที่อุณหภูมิต่ำ
กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราดสุญญากาศสูงพิเศษ (UHV-SEM)
SPM ซึ่งเหมาะอย่างยิ่งสำหรับการสังเกตภาพระดับอะตอมและระดับโมเลกุล ไม่เหมาะสำหรับการสังเกตการณ์ในบริเวณกว้าง อย่างไรก็ตาม เป็นเรื่องปกติที่ผู้ใช้ SPM ต้องการสังเกตภาพขยายของขอบเขตการมองเห็นที่ต้องการ การเพิ่มฟังก์ชัน SEM ทำให้มั่นใจได้ว่าจะไม่ เฉพาะการระบุพื้นที่รับชมด้วย SPM เท่านั้น แต่ยังรวมถึงการสังเกตที่หลากหลายตั้งแต่การสังเกตด้วยกำลังขยายต่ำไปจนถึงการสังเกต SPM นอกจากนี้ ความสามารถในการสังเกตความสัมพันธ์ระหว่างชิ้นงานกับทิปและสถานะของทิปยังมีประสิทธิภาพมากในการเพิ่มประสิทธิภาพการวิจัย คอลัมน์ที่พัฒนาขึ้นใหม่สำหรับ UHV-SEM นี้ไม่ใช้น้ำหล่อเย็นเพื่อแยกการสั่นสะเทือน และถูกสร้างขึ้นในลักษณะนี้ เพื่อไม่ให้เสียสุญญากาศสูงพิเศษ สิ่งนี้ได้ขจัดอิทธิพลของการสั่นสะเทือนต่อการสังเกตภาพและความกลัวการปนเปื้อนของชิ้นงาน
การพัฒนา SPM-SEM สุญญากาศสูงพิเศษรับประกันความสามารถในการขยายของ SPM โดยเสริมข้อบกพร่องตามลำดับ
ข้อบ่งชี้จำเพาะ
ความละเอียด | |
---|---|
ตามแนวนอน | 0.14 นาโนเมตร (STM) ความละเอียดระดับอะตอม (AFM) |
แนวตั้ง | 0.01 นาโนเมตร (STM) ความละเอียดระดับอะตอม (AFM) |
การเคลื่อนไหวทางกล (ขับเคลื่อนด้วยมอเตอร์) | |
การเคลื่อนไหว Z (ฟังก์ชั่นเข้าใกล้): | ควบคุมระยะห่างระหว่างทิปกับชิ้นงานอย่างหยาบ |
กลไกการเข้าใกล้อัตโนมัติ | Built-in |
การเคลื่อนที่ X และ Y (ฟังก์ชันเลื่อนชิ้นงาน) ช่วงการเคลื่อนไหว | X และ Y: 4 มม. (±2 มม.) (STM)
X และ Y: 2 มม. (±1 มม.) (AFM) |
ตัวบ่งชี้ตำแหน่งตรงกลาง | บิวท์อิน |
เครื่องสแกนเนอร์ | |
ประเภท | สแต็กแชร์ (STM) หลอด (เอเอฟเอ็ม) |
การเคลื่อนไหวสูงสุด | X และ Y: 0.2 µm (200 นาโนเมตร), Z: 0.6 µm (STM)
X และ Y: 10 µm, Z: 2.7 µm (AFM) |
หมุนการสแกน | ให้ (–180 ถึง +180°) |
ช่วงสแกน | |
ช่วงตัวแปร | 0 ถึง 200 นาโนเมตร (แปรผันในขั้นตอน 12 บิต) (STM)
0 ถึง 10 µm (แปรผันในขั้นตอน 12 บิต) (AFM) |
ฟังก์ชั่นซูม | ภาพถ่าย |
ตัวอย่าง | |
จำนวนชิ้นงานทดสอบต่อการบรรทุก | หนึ่งอัน (MGL ใช้สำหรับการแลกเปลี่ยนสิ่งส่งตรวจ) |
ขนาดตัวอย่าง | สูงสุด 10 มม. × 10 มม. × 5 มม. (t) (STM)
สูงสุด 8 มม. × 7.7 มม. × 2 มม. (t) (AFM) 1mm×7mm×0.3mm (t) เพื่อให้ความร้อน |
กลไกการทำความร้อนของชิ้นงานทดสอบ | |
วิธีทำความร้อน | การให้ความร้อนโดยตรงโดยความต้านทานของชิ้นงาน |
อุณหภูมิความร้อน | RT (อุณหภูมิห้อง) ถึง 1200°C หรือมากกว่า |
ลอยไป | |
ระบบดริฟท์ | 0.05 นาโนเมตร/วินาที หรือน้อยกว่า (ที่ RT และอุณหภูมิสูง) |
ห้องบำบัดสิ่งส่งตรวจ | สำหรับการรักษาสิ่งส่งตรวจและที่จอดรถทิปและตัวอย่าง |
แรงดันสูงสุด | ประมาณ 10 -7Pa |
อากาศล็อคของชิ้นงาน | สำหรับการแลกเปลี่ยนทิปและตัวอย่าง |
แรงดันสูงสุด | ประมาณ 10 -4Pa |
เครื่องทำความร้อน Bakeout | บิวท์อิน |
ข้อมูลเพิ่มเติม
คุณเป็นผู้เชี่ยวชาญทางการแพทย์หรือบุคลากรที่เกี่ยวข้องกับการรักษาพยาบาลหรือไม่?
ไม่
โปรดทราบว่าหน้าเหล่านี้ไม่ได้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้ข้อมูลเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์แก่ประชาชนทั่วไป