ปิด Btn

เลือกไซต์ภูมิภาคของคุณ

ปิดหน้านี้

JSPM-4610A/S กล้องจุลทรรศน์โพรบสแกน UHV

ยกเลิก

JSPM-4610A/S กล้องจุลทรรศน์โพรบสแกน UHV

UHV-SPM ของ JEOL ช่วยให้คุณได้รับข้อมูลพื้นผิวที่ถูกต้อง

คุณสมบัติ

เทคโนโลยีที่รองรับ SPM

สแกนเนอร์ที่ทำร่วมกันแบบเรียงซ้อน

ในฐานะที่เป็นสแกนเนอร์ซึ่งเป็นหัวใจของ SPM จึงใช้สแกนเนอร์โหมดการแชร์แบบเรียงซ้อนที่พัฒนาโดย JEOL ช่วยขจัดความผิดเพี้ยนของภาพที่เกิดจากการรบกวนระหว่างองค์ประกอบเพียโซ และเป็นไปตามข้อกำหนดสามประการเพื่อให้ได้ความถี่เรโซแนนซ์สูง นั่นคือ "พกพาสะดวก" "เล็ก" และ "น้ำหนักเบา"

ขั้นตอนตัวอย่าง

ขั้นตอนของชิ้นงานทดสอบซึ่งใช้เทคนิคที่เกี่ยวข้องกับ EM ที่มีความแม่นยำสูงที่สุดของ JEOL เป็นโครงสร้างรายการบนสุด โครงสร้างนี้ไม่เพียงแต่รวมเอาแนวคิดของการควบคุมนาโนเมตรของชิ้นงานทดสอบเท่านั้น แต่ยังรวมถึงแนวคิดเรื่อง
เวทีช่วยให้การสังเกต SPM มีความเสถียร ดังนั้นจึงแสดงประสิทธิภาพสำหรับการสังเกตไซต์ นอกจากนี้ พื้นผิวของชิ้นงานจะถูกเปิดออกมาก ทำให้สามารถเพิ่มฟังก์ชันใหม่ๆ ได้มากมาย

กลไกการเคลื่อนไหวหยาบ

กลไกเหล่านี้ต้องการการเคลื่อนไหวที่ดีที่สุดใน SPM ช่วยให้ทิปเข้าใกล้บริเวณนาโนเมตรได้อย่างปลอดภัยโดยไม่ทำให้ทิปไปโดนชิ้นงานทดสอบ สามารถย้ายทิปได้อย่างถูกต้องโดยอัตโนมัติด้วยมอเตอร์ขับเคลื่อนจากภายนอกสุญญากาศ

วงจรควบคุม

กระแสในอุโมงค์ที่ตรวจพบโดย SPM เป็นกระแสที่อ่อนของคำสั่งนาโนแอมแปร์ ทำให้จำเป็นต้องศึกษาปัญหาสัญญาณรบกวนอย่างต่อเนื่อง นอกจากนี้ วงจรป้อนกลับต้องมีความทนทานต่อการแกว่งอย่างเพียงพอ เทคนิคเหล่านี้เสร็จสิ้นจากการพัฒนากล้องจุลทรรศน์แบบส่องกราด ซึ่งมีผลกับ SPM ด้วย
วงจรควบคุมนี้สามารถใช้ได้ทั่วไปสำหรับ AFM

ระบบ WINSPM

ระบบ WINSPM เป็นระบบควบคุมและเก็บข้อมูลแบบบูรณาการที่พัฒนาขึ้นสำหรับกล้องจุลทรรศน์หัววัดแบบสแกน ไม่เพียงแต่ช่วยให้สังเกต SPM, lV, STS, AFM, Force-Curve และ LFM ได้เท่านั้น แต่ยังสามารถป้อนข้อมูลพร้อมกันและแสดงผลพร้อมกันได้ถึง 4 ช่องสัญญาณ นอกจากนี้ยังมาพร้อมกับฟังก์ชั่นการประมวลผลภาพมากกว่า 100 ฟังก์ชั่นและมากกว่า 30
ฟังก์ชั่นการประมวลผลกราฟิก ด้วยการใช้ MS-windows ทำให้สามารถเปลี่ยนเป็นแอพพลิเคชั่นอื่น (ประเภท TIFF) และเชื่อมต่อเครือข่ายได้อย่างง่ายดาย

ระบบ Window ที่ใช้งานง่าย

ซอฟต์แวร์ WINSPM ซึ่งทำงานบน MS-Windows มีสภาพแวดล้อมการทำงานของเมาส์เต็มรูปแบบ มาพร้อมกับ GUI เช่น ระบบเมนูและกล่องโต้ตอบ ทุกคนสามารถสั่งงานได้ง่ายๆ นอกจากนี้ยังมาพร้อมกับหน่วยความจำความจุสูง จึงสามารถทำงานได้อย่างราบรื่นแม้เปิดหน้าต่างหลายบานพร้อมกัน

แผงควบคุมเพื่อประสิทธิภาพการทำงานสูงสุด

ความง่ายในการทำงานของแผงควบคุมมีความสำคัญมากสำหรับการสแกน AFM และ SPM ระบบ WINSPM มีพารามิเตอร์ที่ใช้บ่อยซึ่งได้รับการคัดเลือกมาอย่างดีจากผลลัพธ์ที่ผ่านมา การตั้งค่าพารามิเตอร์ปลีกย่อยสามารถทำได้อย่างอิสระโดยใช้กล่องโต้ตอบ ฟังก์ชันต่างๆ เช่น STS, CITS และ LITHOGRAPHY มีให้เป็นมาตรฐานทั้งหมด

ฟังก์ชั่นการประมวลผลภาพมากมาย

ระบบ WINSPM มีฟังก์ชันการประมวลผลภาพมากกว่า 100 ประเภทที่พัฒนาขึ้นโดยเฉพาะสำหรับ SPM ซึ่งรวมถึงการแสดงผล 3 มิติ การทำโปรไฟล์ FFT การขยาย และการวิเคราะห์อนุภาค
ระบบ WINSPM มีจานแม่เหล็กเป็นมาตรฐาน ช่วยให้สามารถสำรองข้อมูลสำคัญที่ส่งออกข้อมูลไปยังเครื่องพิมพ์เลเซอร์หรือเครื่องถ่ายเอกสารสีได้เต็มรูปแบบ
ฟังก์ชั่นเสริมประกอบด้วยการเชื่อมต่อจอภาพที่สองซึ่งใช้สำหรับการแสดงภาพโดยเฉพาะ การส่งออกแบบเรียลไทม์ไปยัง VTR และการป้อนข้อมูลและการประมวลผลภาพจาก VTR

ระบบอพยพแยกอิสระ 3 ห้อง

ระบบการอพยพด้วยสุญญากาศสูงเป็นพิเศษประกอบด้วยห้องสามห้อง ซึ่งสามารถแยกออกจากกัน ดังนั้น ระบบจึงถูกสร้างขึ้นเป็นห้องมัลติทาสก์ซึ่งให้แต่ละห้องมีบทบาทตามลำดับ ในขณะเดียวกัน ระบบการอพยพนี้มีความสมดุลโดยรวมเป็นอย่างดี เพื่อให้มีสุญญากาศสูงเป็นพิเศษ

ระบบแยกการสั่นสะเทือน

ระบบแยกการสั่นสะเทือนเป็นปัจจัยสำคัญสำหรับ SPM ซึ่งมีความละเอียดระดับอะตอมหรือโมเลกุล การสั่นสะเทือนทางกลถูกแยกออกอย่างสมบูรณ์โดยการเชื่อมต่อโดยตรงกับห้องสุญญากาศและ SPM เข้ากับระบบแยกการสั่นสะเทือนแบบแขวนลอยด้วยอากาศแบบ gimbal-piston ซึ่งมีคุณสมบัติการแยกการสั่นสะเทือนในแนวตั้งและแนวนอนที่ยอดเยี่ยม และยังใช้ SPM พื้นฐานในการสั่นแบบแฮตสแต็คบนสุด กลไกซึ่งแยกการสั่นสะเทือนทั้งแนวนอนและแนวตั้ง

ฟังก์ชั่นเพิ่มเติมมากมาย

สิ่งที่ทำให้ระเหิด

สิ่งนี้ใช้เพื่อดูดระเหยตัวอย่างที่มีอะตอมแตกต่างจากอะตอมของตัวอย่าง มีเส้นผ่านศูนย์กลาง 70 มม. สองตัว พอร์ตที่หันเข้าหาชิ้นงานทดสอบ มีการเตรียมการสำหรับการระเหยจากด้านล่างที่มุม 40° และการระเหยสามารถทำได้โดยไม่ทำให้ส่วนอื่นปนเปื้อนนอกเหนือจากชิ้นงานเนื่องจากแหล่งกำเนิดไอออนถูกปรับให้ใกล้เคียงกัน

อุปกรณ์ทำความร้อน

การให้ความร้อนกับชิ้นงานทดสอบเป็นฟังก์ชันที่ขาดไม่ได้สำหรับการทำความสะอาดชิ้นงานทดสอบและสำหรับการวิจัยการเปลี่ยนเฟสที่อุณหภูมิสูงและโครงสร้างพื้นผิว นอกจากนี้ MBE ยังต้องการฟังก์ชันเพื่อให้ความร้อนแก่ชิ้นงานทางอ้อม อุปกรณ์ทำความร้อนได้รับการพัฒนาเพื่อตอบสนองความต้องการเหล่านี้ ไม่เพียงช่วยให้ชิ้นงานกระพริบเท่านั้น แต่ยังช่วยให้สังเกตชิ้นงานได้ในขณะที่ให้ความร้อนด้วย

อุปกรณ์ระบายความร้อน

เช่นเดียวกับการให้ความร้อนกับชิ้นงาน การทำให้ชิ้นงานเย็นลงก็จำเป็นเช่นกันสำหรับการวิจัยการเปลี่ยนสถานะของสาร...ในกรณีนี้ภายใต้อุณหภูมิต่ำ มีประสิทธิภาพอย่างยิ่งสำหรับการสังเกตวัสดุตัวนำยิ่งยวดที่อุณหภูมิต่ำ

กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราดสุญญากาศสูงพิเศษ (UHV-SEM)

SPM ซึ่งเหมาะอย่างยิ่งสำหรับการสังเกตภาพระดับอะตอมและระดับโมเลกุล ไม่เหมาะสำหรับการสังเกตการณ์ในบริเวณกว้าง อย่างไรก็ตาม เป็นเรื่องปกติที่ผู้ใช้ SPM ต้องการสังเกตภาพขยายของขอบเขตการมองเห็นที่ต้องการ การเพิ่มฟังก์ชัน SEM ทำให้มั่นใจได้ว่าจะไม่ เฉพาะการระบุพื้นที่รับชมด้วย SPM เท่านั้น แต่ยังรวมถึงการสังเกตที่หลากหลายตั้งแต่การสังเกตด้วยกำลังขยายต่ำไปจนถึงการสังเกต SPM นอกจากนี้ ความสามารถในการสังเกตความสัมพันธ์ระหว่างชิ้นงานกับทิปและสถานะของทิปยังมีประสิทธิภาพมากในการเพิ่มประสิทธิภาพการวิจัย คอลัมน์ที่พัฒนาขึ้นใหม่สำหรับ UHV-SEM นี้ไม่ใช้น้ำหล่อเย็นเพื่อแยกการสั่นสะเทือน และถูกสร้างขึ้นในลักษณะนี้ เพื่อไม่ให้เสียสุญญากาศสูงพิเศษ สิ่งนี้ได้ขจัดอิทธิพลของการสั่นสะเทือนต่อการสังเกตภาพและความกลัวการปนเปื้อนของชิ้นงาน
การพัฒนา SPM-SEM สุญญากาศสูงพิเศษรับประกันความสามารถในการขยายของ SPM โดยเสริมข้อบกพร่องตามลำดับ

ข้อบ่งชี้จำเพาะ

ความละเอียด
ตามแนวนอน 0.14 นาโนเมตร (STM) ความละเอียดระดับอะตอม (AFM)
แนวตั้ง 0.01 นาโนเมตร (STM) ความละเอียดระดับอะตอม (AFM)
การเคลื่อนไหวทางกล (ขับเคลื่อนด้วยมอเตอร์)
การเคลื่อนไหว Z (ฟังก์ชั่นเข้าใกล้): ควบคุมระยะห่างระหว่างทิปกับชิ้นงานอย่างหยาบ
กลไกการเข้าใกล้อัตโนมัติ Built-in
การเคลื่อนที่ X และ Y (ฟังก์ชันเลื่อนชิ้นงาน) ช่วงการเคลื่อนไหว X และ Y: 4 มม. (±2 มม.) (STM)
X และ Y: 2 มม. (±1 มม.) (AFM)
ตัวบ่งชี้ตำแหน่งตรงกลาง บิวท์อิน
เครื่องสแกนเนอร์
ประเภท สแต็กแชร์ (STM) หลอด (เอเอฟเอ็ม)
การเคลื่อนไหวสูงสุด X และ Y: 0.2 µm (200 นาโนเมตร), Z: 0.6 µm (STM)
X และ Y: 10 µm, Z: 2.7 µm (AFM)
หมุนการสแกน ให้ (–180 ถึง +180°)
ช่วงสแกน
ช่วงตัวแปร 0 ถึง 200 นาโนเมตร (แปรผันในขั้นตอน 12 บิต) (STM)
0 ถึง 10 µm (แปรผันในขั้นตอน 12 บิต) (AFM)
ฟังก์ชั่นซูม ภาพถ่าย
ตัวอย่าง
จำนวนชิ้นงานทดสอบต่อการบรรทุก หนึ่งอัน (MGL ใช้สำหรับการแลกเปลี่ยนสิ่งส่งตรวจ)
ขนาดตัวอย่าง สูงสุด 10 มม. × 10 มม. × 5 มม. (t) (STM)
สูงสุด 8 มม. × 7.7 มม. × 2 มม. (t) (AFM)
1mm×7mm×0.3mm (t) เพื่อให้ความร้อน
กลไกการทำความร้อนของชิ้นงานทดสอบ
วิธีทำความร้อน การให้ความร้อนโดยตรงโดยความต้านทานของชิ้นงาน
อุณหภูมิความร้อน RT (อุณหภูมิห้อง) ถึง 1200°C หรือมากกว่า
ลอยไป
ระบบดริฟท์ 0.05 นาโนเมตร/วินาที หรือน้อยกว่า (ที่ RT และอุณหภูมิสูง)
ห้องบำบัดสิ่งส่งตรวจ สำหรับการรักษาสิ่งส่งตรวจและที่จอดรถทิปและตัวอย่าง
แรงดันสูงสุด ประมาณ 10 -7Pa
อากาศล็อคของชิ้นงาน สำหรับการแลกเปลี่ยนทิปและตัวอย่าง
แรงดันสูงสุด ประมาณ 10 -4Pa
เครื่องทำความร้อน Bakeout บิวท์อิน

ข้อมูลเพิ่มเติม

พื้นฐานวิทยาศาสตร์

คำอธิบายง่ายๆ เกี่ยวกับกลไกและ
การใช้งานผลิตภัณฑ์ JEOL

ปิดหน้านี้
แจ้งให้ทราบ

คุณเป็นผู้เชี่ยวชาญทางการแพทย์หรือบุคลากรที่เกี่ยวข้องกับการรักษาพยาบาลหรือไม่?

ไม่

โปรดทราบว่าหน้าเหล่านี้ไม่ได้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้ข้อมูลเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์แก่ประชาชนทั่วไป

ติดต่อ

เจอีโอแอล ให้บริการสนับสนุนที่หลากหลายเพื่อให้แน่ใจว่าลูกค้าของเราสามารถใช้ผลิตภัณฑ์ของเราได้อย่างสบายใจ
โปรดติดต่อเรา