บีเอส-80011บีพีจี
แหล่งกำเนิดพลาสม่ากำลังสูง
สำหรับพลาสมาความหนาแน่นสูง
แหล่งพลาสมารวมอยู่ในห้องสุญญากาศและสร้างพลาสมาความหนาแน่นสูง แหล่งพลาสม่าสามารถใช้เป็นพลาสม่า Assisted Deposition (Ion Plating) และเป็นไปได้ที่จะปรับปรุงคุณสมบัติของฟิล์มสำหรับฟิล์มบางแบบออปติคัล ฟิล์มป้องกัน และฟิล์มที่ใช้งานได้ และยังสามารถใช้สำหรับการบำบัดด้วยพลาสม่า เช่น การทำความสะอาดและการปรับเปลี่ยนพื้นผิว
คุณสมบัติ
พลาสมาแรงดันต่ำและกระแสไฟขนาดใหญ่ทำให้สามารถแตกตัวเป็นไอออนและกระตุ้นโมเลกุลของก๊าซและอนุภาคที่ระเหยได้
สามารถเกิดการสะสมของปฏิกิริยาได้ โดยเฉพาะอย่างยิ่งเหมาะสำหรับการส่งเสริมการเกิดออกซิเดชันของฟิล์ม
พลาสมาความหนาแน่นสูงสามารถสร้างขึ้นในพื้นที่มวล ดังนั้นจึงเป็นไปได้ที่การสะสมที่มีอัตราสูงไปยังพื้นที่ขนาดใหญ่
สามารถติดตั้งเพิ่มเติมกับห้องสุญญากาศที่มีอยู่ได้
ผล
การปรับปรุงความหนาแน่นของฟิล์มดัชนีการหักเหของแสง
การผลิตฟิล์มที่เป็นมิตรกับสิ่งแวดล้อม
การเปลี่ยนความยาวคลื่นต่ำ
การดูดกลืนแสงต่ำ (ส่งเสริมการเกิดออกซิเดชันของฟิล์ม)
ปรับปรุงการยึดเกาะของฟิล์ม
ปรับปรุงความหยาบผิว
การควบคุมความเครียดของฟิล์ม
ข้อบ่งชี้จำเพาะ
เอาต์พุตพลาสม่าสูงสุด ： 6kW (160V, 38A)
แรงดันใช้งาน ： 1×10-2 ถึง 1×10-1ปะ (อ, โอ2, N2 บรรยากาศ)
ปล่อยก๊าซ(Ar) ： 8 ถึง 20mL/นาที
น้ำหล่อเย็น ： 7 ถึง 10L/นาที
วิธีบีม : เลือกได้จากรีเฟล็กชั่นบีมและบีมฉายรังสี
ดาวน์โหลดแคตตาล็อก
BS-80011BPG แหล่งพลาสม่ากำลังสูงสำหรับพลาสมาความหนาแน่นสูง
สินค้าที่เกี่ยวข้อง
สินค้าที่เกี่ยวข้อง
BS-80020CPPS แหล่งพลาสม่าสำหรับกระบวนการที่อุณหภูมิต่ำ
แหล่งพลาสมานี้มีความเฉพาะทางสำหรับกระบวนการที่อุณหภูมิต่ำ เช่น สำหรับซับสเตรต/ฟิล์มพลาสติก คุณภาพฟิล์มของฟิล์มที่สะสมในสุญญากาศสามารถปรับปรุงได้ด้วยพลาสมาช่วยสะสมด้วยการเพิ่มอุณหภูมิที่ต่ำลงของซับสเตรต และยังสามารถใช้สำหรับการบำบัดด้วยพลาสม่า เช่น การทำความสะอาดและการปรับเปลี่ยนพื้นผิว
ข้อมูลเพิ่มเติม
คุณเป็นผู้เชี่ยวชาญทางการแพทย์หรือบุคลากรที่เกี่ยวข้องกับการรักษาพยาบาลหรือไม่?
ไม่
โปรดทราบว่าหน้าเหล่านี้ไม่ได้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้ข้อมูลเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์แก่ประชาชนทั่วไป