ซีรี่ส์ JBX-A9
อิเล็กตรอนบีมลิโทกราฟีซิสเทม
คุณสมบัติ
ระบบการเขียนโดยตรงที่มีความแม่นยำสูงและปริมาณงานสูง
สร้างด้วย Electron Optics ที่มีชื่อเสียงของ JEOL เพื่อความเสถียรสูงสุด
เวเฟอร์ที่บรรจุได้สูงสุด 300 มม
สามารถเลือกระบบ FOUP ได้
ความสามารถในการขยายแบบอินไลน์ไปยังเครื่องมือกระบวนการอื่นๆ เช่น เครื่องเคลือบและนักพัฒนา
การใช้พลังงานต่ำ
ปรับปรุงความสะดวกในการใช้งานสำหรับทุกระดับประสบการณ์
DFB Laser / Nanoimprint
เมทาเลน
อาร์เรย์เลนส์
T-เกต
โทนิคคริสตัล
ข้อบ่งชี้จำเพาะ
| รายการ | Specification |
|---|---|
| แรงดันไฟเร่ง | 100 kV |
| ขนาดฟิลด์สูงสุด | 1000 ไมครอน |
| เพิ่มขั้นต่ำ | นาโนเมตร 0.25 |
| ความแม่นยำในการเย็บ | ± 9 นาโนเมตร |
| ความแม่นยำในการซ้อนทับ | ± 9 นาโนเมตร |
| ความกว้างบรรทัดขั้นต่ำ | ≦8 นาโนเมตร |
| กระแสลำแสง | 50 pA ถึง 400 nA |
| ความเร็วในการสแกนสูงสุด | เมกะเฮิรตซ์ 200 |
| ความละเอียดการวางตำแหน่งเวที | นาโนเมตร 0.15 |
| การแก้ไขความคลาดเคลื่อนอัตโนมัติ | โฟกัสแบบไดนามิก การตีตราแบบไดนามิก การแก้ไขความผิดเพี้ยนของการโก่งตัว |
| ขนาดตัวอย่างสูงสุด | 300 เวเฟอร์ หน้ากาก 9 นิ้ว |
| การใช้พลังงาน | 5 kVA |
| รอยพระบาท | 7.4 ม. × 5.3 ม. × 2.7 ม. (H) |
| การกำหนดค่าพื้นฐาน |
|---|
| หน่วยพื้นฐาน |
| ระบบโหลดอัตโนมัติ 10 ตลับ |
| ควบคุมโปรแกรมด้วยระบบซีพียู |
| ใบอนุญาตเพิ่มเติมสำหรับโปรแกรมการเตรียมข้อมูล |
| การควบคุมระยะไกล OL รูรับแสง |
| Options |
|---|
| กล้องจุลทรรศน์แบบใช้แสงในแหล่งกำเนิด |
| ระบบโหลดอัตโนมัติ FOUP Wafer |
| เปิดระบบโหลดเวเฟอร์อัตโนมัติขนาด 200 มม. ของ Cassette |
| โปรแกรมไฟฟ้าแรงสูง 48kV |
| คาสเซ็ตแบบกำหนดเอง |
| ก.ล.ต./อัญมณี |
| แอร์ |
| ระบบยกเลิกอีเอ็มไอ |
* ติดต่อสำนักงาน JEOL ในพื้นที่เพื่อขอรายละเอียดเพิ่มเติมเกี่ยวกับรุ่นเกรดอื่นๆ
ดาวน์โหลดแคตตาล็อก
JBX-A9 ซีรี่ส์ ระบบการพิมพ์หินด้วยลำแสงอิเล็กตรอน
การใช้งาน
การพัฒนา JBX-A9 ระบบการพิมพ์หินด้วยลำแสงอิเล็กตรอน
รูปภาพ
ข้อมูลเพิ่มเติม
คุณเป็นผู้เชี่ยวชาญทางการแพทย์หรือบุคลากรที่เกี่ยวข้องกับการรักษาพยาบาลหรือไม่?
ไม่
โปรดทราบว่าหน้าเหล่านี้ไม่ได้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้ข้อมูลเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์แก่ประชาชนทั่วไป