JBX-9500FS เป็นระบบ EB ขนาด 100kV ที่ให้ปริมาณงานระดับบนสุดของโลกและความแม่นยำของตำแหน่งในระบบการพิมพ์หินเฉพาะจุด ระบบ EB นี้สามารถรองรับเวเฟอร์ขนาดสูงสุด 300 มม. และหน้ากากขนาด 6 นิ้ว ซึ่งตอบสนองต่อการวิจัยและพัฒนาและการผลิตในด้านต่างๆ เช่น การพิมพ์นาโน อุปกรณ์โฟโตนิก และอุปกรณ์สื่อสาร
คุณสมบัติ
นอกจากความเร็วในการสแกนสูงสุดที่ 100MHz แล้ว JBX-9500FS ยังมีความแม่นยำในการซ้อนทับที่ ±11nm, ความแม่นยำในการเย็บภาคสนามที่ ±10nm และความแม่นยำของตำแหน่งภายในขอบเขต ±9nm เมื่อขนาดสนามคือ 1000µm×1000µm ดังนั้น JBX-9500FS จึงเป็นระบบ EB ขนาด 100kV ที่ให้ปริมาณงานระดับบนสุดของโลกและความแม่นยำของตำแหน่งในระบบการพิมพ์หินเฉพาะจุด
เนื่องจาก JBX-9500FS ใช้ DAC การกำหนดตำแหน่งลำแสง 20 บิตและสแกน DAC ที่ 14 บิต จึงได้ขั้นตอนการสแกนที่มีความละเอียดสูงขึ้น 0.25 นาโนเมตรสำหรับการเขียนข้อมูลที่เพิ่มขึ้น 1 นาโนเมตร ดังนั้นจึงสร้างข้อมูลการเขียนที่แม่นยำยิ่งขึ้น
ความเร็วในการสแกนสูงถึง 100MHz ทำให้ JBX-9500FS สามารถรักษาขั้นตอนการสแกนสั้น ๆ ในการเขียนกระแสไฟขนาดใหญ่ได้ ซึ่งจะช่วยเพิ่มปริมาณงานแม้ว่าจะต้องใช้การเขียนรูปแบบที่มีความแม่นยำสูงก็ตาม
ความแม่นยำของตำแหน่งชั้นนำระดับโลกทำได้โดย LBC (การควบคุมลำแสงเลเซอร์) ที่ให้ขั้นตอนการวางตำแหน่งลำแสงที่มีความละเอียดสูงและต่ำสุดที่ 0.15nm (λ/4096)
นอกจากนี้ ฟังก์ชันการปรับเทียบอัตโนมัติที่ไม่ซ้ำใคร (ฟังก์ชันแก้ไขอัตโนมัติ) ที่พัฒนาโดย JEOL ยังช่วยให้การเขียนรูปแบบมีความเสถียรและเชื่อถือได้สูงเป็นระยะเวลานาน สามารถตั้งเวลาการแก้ไขอัตโนมัติสำหรับแต่ละฟิลด์หรือแต่ละรูปแบบได้ ฟังก์ชันนี้มีประสิทธิภาพมากสำหรับการเขียนเป็นเวลานานโดยไม่มีตัวดำเนินการ เช่น วันหยุดสุดสัปดาห์หรือวันหยุดต่อเนื่อง
JBX-9500FS สามารถรองรับแผ่นเวเฟอร์ขนาด 300 มม.Φ และหน้ากากขนาด 6 นิ้ว ซึ่งตอบสนองต่อการวิจัยและพัฒนาและการผลิตในด้านต่างๆ เช่น การพิมพ์นาโน อุปกรณ์โฟโตนิก และอุปกรณ์สื่อสาร การเพิ่มระบบถ่ายโอนตลับวัสดุ (ตัวเลือก) ทำให้ระบบ EB นี้สามารถบรรจุตลับได้มากถึง 10 ตลับ
การใช้โปรแกรม Fine Pitch Control (โปรแกรมการปรับแบบละเอียดขนาดภาคสนาม) ช่วยให้ JBX-9500FS ประดิษฐ์ตะแกรงที่มีช่วงเวลาร้องเจี๊ยก ๆ เช่น เลเซอร์ DFB
ผลงานเบื้องต้น
กว่า 40 ปี JEOL ได้ส่งมอบระบบ EB จำนวนมากให้กับสถาบันวิจัยและสายการผลิตในญี่ปุ่นและต่างประเทศ
ข้อบ่งชี้จำเพาะ
| ปืนอิเล็กตรอน | ZrO/W ประเภท Shottky |
|---|---|
| วิธีการเขียน | ลำแสงเฉพาะจุด, การสแกนเวกเตอร์, ก้าวและทำซ้ำ |
| บัญชี แรงดันไฟฟ้า | 100kV |
| ขนาดวัสดุ | ขนาดวัสดุ (บรรจุได้): แผ่นเวเฟอร์สูงสุด 300 มม., หน้ากากสูงสุด 6 นิ้ว, ตัวอย่างขนาดเล็กทุกขนาด |
| ขนาดฟิลด์สูงสุด | 1000µm×1000µm |
| ช่วงการเคลื่อนที่ของเวที | 260mmX240mm |
| ชุดควบคุมเวที | 0.15nm (λ/4096) |
| ความแม่นยำในการวางซ้อน | ≦±11นาโนเมตร |
| ความแม่นยำในการเย็บสนาม | ≦±10nm (สนาม 1000µm × 1000µm) |
| ความแม่นยำของตำแหน่งภายในระนาบสนาม | ≦±9nm (ฟิลด์ 1000µm × 1000µm) |
| การวางตำแหน่งลำแสงDAC | 20bit |
| ความเร็วในการสแกน | ขึ้นไป 100MHz |
ข้อมูลเพิ่มเติม
คุณเป็นผู้เชี่ยวชาญทางการแพทย์หรือบุคลากรที่เกี่ยวข้องกับการรักษาพยาบาลหรือไม่?
ไม่
โปรดทราบว่าหน้าเหล่านี้ไม่ได้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้ข้อมูลเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์แก่ประชาชนทั่วไป