JBX-3200MV เป็นระบบการพิมพ์หินด้วยลำแสงอิเล็กตรอนรูปทรงแปรผันสำหรับการทำหน้ากากขนาด 28 นาโนเมตรถึง 22/20 นาโนเมตร เทคโนโลยีล้ำสมัยทำให้ได้ความเร็วสูง ความแม่นยำสูง และความน่าเชื่อถือสูง ระบบ EB นี้ใช้ลำแสงอิเล็กตรอนขนาด 50 kV ที่มีรูปร่างแปรผันและสเตจของชิ้นงานทดสอบแบบทีละขั้นตอนและทำซ้ำ
คุณสมบัติ
ระบบ EB นี้ใช้ประโยชน์จากวิธีการเขียนแบบทีละขั้นตอนและทำซ้ำ โดยผสมผสานฟังก์ชันต่างๆ เช่น ฟังก์ชันมอดูเลตปริมาณการเขียนและฟังก์ชันการเขียนทับซ้อนเข้าด้วยกัน ทำให้สามารถรองรับการแก้ไขที่หลากหลายซึ่งจำเป็นสำหรับการสร้างรูปแบบมาสก์รุ่นต่อไป และเรติเคิล
ร้านขายหน้ากากเชลยและร้านขายหน้ากากพ่อค้าในญี่ปุ่นและต่างประเทศ
(ไม่เปิดเผยชื่อลูกค้า)
ร้านขายหน้ากากเชลยและร้านขายหน้ากากพ่อค้าในญี่ปุ่นและต่างประเทศ
(ไม่เปิดเผยชื่อลูกค้า)
ข้อบ่งชี้จำเพาะ
| ความแม่นยำในการเย็บ | ≦±3.5 นาโนเมตร |
|---|---|
| ความแม่นยำในการวางซ้อน | ≦±5 นาโนเมตร |
ข้อมูลเพิ่มเติม
คุณเป็นผู้เชี่ยวชาญทางการแพทย์หรือบุคลากรที่เกี่ยวข้องกับการรักษาพยาบาลหรือไม่?
ไม่
โปรดทราบว่าหน้าเหล่านี้ไม่ได้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้ข้อมูลเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์แก่ประชาชนทั่วไป