JBX-3050MV เป็นระบบการพิมพ์หินด้วยลำแสงอิเล็กตรอนรูปทรงแปรผันสำหรับการทำหน้ากากขนาด 45 นาโนเมตรถึง 32 นาโนเมตร เทคโนโลยีล้ำสมัยทำให้ได้ความเร็วสูง ความแม่นยำสูง และความน่าเชื่อถือสูง ระบบ EB นี้ใช้ลำแสงอิเล็กตรอนขนาด 50 kV รูปทรงแปรผันและสเตจแบบขั้นตอนและซ้ำ
คุณสมบัติ
JBX-3050MV คือระบบการพิมพ์หินด้วยลำแสงอิเล็กตรอนสำหรับการผลิตหน้ากาก/เรติเคิลที่ตรงตามกฎการออกแบบที่ 45 ถึง 32 นาโนเมตร ระบบนี้มีการเขียนลวดลายด้วยความเร็วสูง ความแม่นยำสูง และความน่าเชื่อถือสูง ด้วยเทคโนโลยีระดับไฮเอนด์
ข้อบ่งชี้จำเพาะ
| ความแม่นยำในการเย็บ | ≦±3.8 นาโนเมตร |
|---|---|
| ความแม่นยำในการวางซ้อน | ≦±7 นาโนเมตร |
ข้อมูลเพิ่มเติม
คุณเป็นผู้เชี่ยวชาญทางการแพทย์หรือบุคลากรที่เกี่ยวข้องกับการรักษาพยาบาลหรือไม่?
ไม่
โปรดทราบว่าหน้าเหล่านี้ไม่ได้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้ข้อมูลเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์แก่ประชาชนทั่วไป