เจบีเอ็กซ์-3050เอ็มวี/เอส
อิเล็กตรอนบีมลิโทกราฟีซิสเทม

JBX-3050MV/S เป็นระบบลิโธกราฟีลำแสงอิเล็กตรอนที่มีรูปร่างแปรผันสำหรับมาสก์และเรติเคิลที่มีกฎการออกแบบโหนดขนาด 45 นาโนเมตร เทคโนโลยีขั้นสูงช่วยให้เกิดความเร็วสูง ความแม่นยำสูง และความน่าเชื่อถือสูง ระบบ EB นี้ใช้ลำแสงอิเล็กตรอน 50 กิโลโวลต์ที่มีรูปร่างแปรผันและสเตจแบบสเต็ปแอนด์รีพีต
คุณสมบัติ
JBX-3050MV/S เป็นระบบลิโธกราฟีลำแสงอิเล็กตรอนสำหรับการผลิตหน้ากาก/เรติเคิลที่ตรงตามกฎการออกแบบ 45 นาโนเมตร ระบบนี้มีคุณสมบัติการเขียนรูปแบบด้วยความเร็วสูง ความแม่นยำสูง และความน่าเชื่อถือสูง ซึ่งทำได้ด้วยเทคโนโลยีขั้นสูง
ข้อบ่งชี้จำเพาะ
ความแม่นยำในการเย็บ | ≦±3.8 นาโนเมตร |
---|---|
ความแม่นยำในการวางซ้อน | ≦±7 นาโนเมตร |
ข้อมูลเพิ่มเติม


คุณเป็นผู้เชี่ยวชาญทางการแพทย์หรือบุคลากรที่เกี่ยวข้องกับการรักษาพยาบาลหรือไม่?
ไม่
โปรดทราบว่าหน้าเหล่านี้ไม่ได้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้ข้อมูลเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์แก่ประชาชนทั่วไป