เจบีเอ็กซ์-3050เอ็มวี/เอส
อิเล็กตรอนบีมลิโทกราฟีซิสเทม

JBX-3050MV/S เป็นระบบลิโธกราฟีลำแสงอิเล็กตรอนที่มีรูปร่างแปรผันสำหรับมาสก์และเรติเคิลที่มีกฎการออกแบบโหนดขนาด 45 นาโนเมตร เทคโนโลยีขั้นสูงช่วยให้เกิดความเร็วสูง ความแม่นยำสูง และความน่าเชื่อถือสูง ระบบ EB นี้ใช้ลำแสงอิเล็กตรอน 50 กิโลโวลต์ที่มีรูปร่างแปรผันและสเตจแบบสเต็ปแอนด์รีพีต

คุณสมบัติ

JBX-3050MV/S เป็นระบบลิโธกราฟีลำแสงอิเล็กตรอนสำหรับการผลิตหน้ากาก/เรติเคิลที่ตรงตามกฎการออกแบบ 45 นาโนเมตร ระบบนี้มีคุณสมบัติการเขียนรูปแบบด้วยความเร็วสูง ความแม่นยำสูง และความน่าเชื่อถือสูง ซึ่งทำได้ด้วยเทคโนโลยีขั้นสูง

ข้อบ่งชี้จำเพาะ

ข้อมูลเพิ่มเติม