เจบีเอ็กซ์-3050เอ็มวี
อิเล็กตรอนบีมลิโทกราฟีซิสเทม

JBX-3050MV เป็นระบบการพิมพ์หินด้วยลำแสงอิเล็กตรอนรูปทรงแปรผันสำหรับการทำหน้ากากขนาด 45 นาโนเมตรถึง 32 นาโนเมตร เทคโนโลยีล้ำสมัยทำให้ได้ความเร็วสูง ความแม่นยำสูง และความน่าเชื่อถือสูง ระบบ EB นี้ใช้ลำแสงอิเล็กตรอนขนาด 50 kV รูปทรงแปรผันและสเตจแบบขั้นตอนและซ้ำ

คุณสมบัติ

JBX-3050MV คือระบบการพิมพ์หินด้วยลำแสงอิเล็กตรอนสำหรับการผลิตหน้ากาก/เรติเคิลที่ตรงตามกฎการออกแบบที่ 45 ถึง 32 นาโนเมตร ระบบนี้มีการเขียนลวดลายด้วยความเร็วสูง ความแม่นยำสูง และความน่าเชื่อถือสูง ด้วยเทคโนโลยีระดับไฮเอนด์

ข้อบ่งชี้จำเพาะ

ข้อมูลเพิ่มเติม