ปิด Btn

เลือกไซต์ภูมิภาคของคุณ

ปิดหน้านี้

เจบีเอ็กซ์-3050เอ็มวี/เอส
อิเล็กตรอนบีมลิโทกราฟีซิสเทม

ระบบลิโทกราฟีลำแสงอิเล็กตรอน JBX-3050MV/S

JBX-3050MV/S เป็นระบบลิโธกราฟีลำแสงอิเล็กตรอนที่มีรูปร่างแปรผันสำหรับมาสก์และเรติเคิลที่มีกฎการออกแบบโหนดขนาด 45 นาโนเมตร เทคโนโลยีขั้นสูงช่วยให้เกิดความเร็วสูง ความแม่นยำสูง และความน่าเชื่อถือสูง ระบบ EB นี้ใช้ลำแสงอิเล็กตรอน 50 กิโลโวลต์ที่มีรูปร่างแปรผันและสเตจแบบสเต็ปแอนด์รีพีต

คุณสมบัติ

JBX-3050MV/S เป็นระบบลิโธกราฟีลำแสงอิเล็กตรอนสำหรับการผลิตหน้ากาก/เรติเคิลที่ตรงตามกฎการออกแบบ 45 นาโนเมตร ระบบนี้มีคุณสมบัติการเขียนรูปแบบด้วยความเร็วสูง ความแม่นยำสูง และความน่าเชื่อถือสูง ซึ่งทำได้ด้วยเทคโนโลยีขั้นสูง

ข้อบ่งชี้จำเพาะ

ความแม่นยำในการเย็บ ≦±3.8 นาโนเมตร
ความแม่นยำในการวางซ้อน ≦±7 นาโนเมตร

ข้อมูลเพิ่มเติม

พื้นฐานวิทยาศาสตร์

คำอธิบายง่ายๆ เกี่ยวกับกลไกและ
การใช้งานผลิตภัณฑ์ JEOL

ปิดหน้านี้
แจ้งให้ทราบ

คุณเป็นผู้เชี่ยวชาญทางการแพทย์หรือบุคลากรที่เกี่ยวข้องกับการรักษาพยาบาลหรือไม่?

ไม่

โปรดทราบว่าหน้าเหล่านี้ไม่ได้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้ข้อมูลเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์แก่ประชาชนทั่วไป

ติดต่อ

เจอีโอแอล ให้บริการสนับสนุนที่หลากหลายเพื่อให้แน่ใจว่าลูกค้าของเราสามารถใช้ผลิตภัณฑ์ของเราได้อย่างสบายใจ
โปรดติดต่อเรา