【เลิกผลิตแล้ว】กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด Schottky Field Emission รุ่น JSM-7800FPRIME
ยกเลิก
สินค้านี้ไม่มีจำหน่ายอีกต่อไปแล้ว
หากคุณต้องการทราบข้อมูลล่าสุดเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์ที่คุณต้องการหรือต้องการทราบข้อมูลเพิ่มเติมเกี่ยวกับทางเลือกอื่นๆ โปรดคลิกที่ลิงก์ด้านล่าง เราหวังว่าคุณจะใช้ผลิตภัณฑ์ของเราต่อไป
คุณสมบัติ
JSM-7800FPRIME มอบความละเอียดที่ดีที่สุดในโลกด้วยการรวมเอา Gentle Beam (GBSH) ความละเอียดสูงพิเศษที่พัฒนาขึ้นใหม่ นอกจากนี้ กระแสโพรบสูงสุดของปืน Schottky Plus ในเลนส์ได้เพิ่มขึ้นจาก 200 nA เป็น 500 nA
ปืนยิงอิเล็กตรอนในสนาม Schottky Plus ในเลนส์
ความสว่างที่สูงขึ้นทำได้โดยการปรับใช้ปืนอิเล็กตรอนและเลนส์คอนเดนเซอร์ที่มีความคลาดเคลื่อนต่ำ กระแสของโพรบตั้งแต่ไม่กี่ pA ถึงหลายสิบของ nA นั้นได้รับแม้จะมีแรงดันไฟฟ้าที่เร่งต่ำโดยการรวบรวมอิเล็กตรอนที่สร้างจากปืนอย่างมีประสิทธิภาพ ทำให้สามารถทำการสังเกตการณ์ที่มีความละเอียดสูง เช่นเดียวกับการทำแผนที่องค์ประกอบความเร็วสูงและ EBSD บนนาโน - ปรับสเกลในขณะที่รักษารูรับแสงเป้าหมายที่เล็กที่สุด
การสังเกตพื้นผิวโดยใช้ GBSH (Gentle Beam Super High Resolution)
ที่มีอยู่ *Gentle Beam (GB) ได้รับการปรับปรุงเพื่อใช้แรงดันไฟฟ้าที่สูงขึ้นกับชิ้นงานทดสอบ ทำให้ได้ภาพที่มีความละเอียดสูงเป็นพิเศษพร้อมแรงดันไฟฟ้าที่มีอัตราเร่งต่ำ GBSH ช่วยให้คุณสามารถเลือกแรงดันไฟฟ้าเร่งที่เหมาะสมที่สุดกับการใช้งาน ตั้งแต่การสังเกตพื้นผิวของชิ้นงานไปจนถึงการวิเคราะห์องค์ประกอบในระดับนาโน
Gentle Beam(GB) เป็นเทคนิคของการใช้แรงดันไบอัสกับชิ้นงานเพื่อลดความเร็วของอิเล็กตรอนที่ตกกระทบ และเร่งความเร็วของอิเล็กตรอนที่ปล่อยออกมา
การถ่ายภาพพื้นผิวด้านบนโดยใช้ Gentle Beam
ด้วยการใช้แรงดันไบอัสกับชิ้นงาน (GB) ความเร็วของอิเล็กตรอนที่ตกกระทบจะลดลงและความเร็วของอิเล็กตรอนที่ปล่อยออกมาจะเพิ่มขึ้น ซึ่งช่วยให้ได้ภาพความละเอียดสูงที่มีอัตราส่วนสัญญาณต่อสัญญาณรบกวนที่ดี แม้ว่าจะมีแรงดันลงจอดของชิ้นงานทดสอบต่ำก็ตาม หากใช้โหมด GBSH ซึ่งอนุญาตให้ใช้แรงดันไบอัสที่สูงขึ้น การสังเกตที่มีความละเอียดสูงสามารถทำได้แม้ที่แรงดันลงจอดเพียงไม่กี่สิบ eV
การได้มาซึ่งข้อมูลทั้งหมดโดยใช้ตัวตรวจจับหลายตัว
JSM-7800F ประกอบด้วยตัวตรวจจับ 4 ประเภท ได้แก่ ตัวตรวจจับอิเล็กตรอนบน (UED) ตัวตรวจจับอิเล็กตรอนทุติยภูมิบน (USD) ตัวตรวจจับอิเล็กตรอนแบบกระจายกลับ (BED) และตัวตรวจจับอิเล็กตรอนล่าง (LED) สำหรับ UED การรวบรวมอิเล็กตรอนทุติยภูมิและการกระจายกลับของอิเล็กตรอนสามารถเปลี่ยนแปลงได้ตามแรงดันไฟฟ้าของตัวกรอง ทำให้สามารถเลือกพลังงานอิเล็กตรอนสำหรับการได้มาของภาพได้ USD ตรวจจับอิเล็กตรอนพลังงานต่ำที่ถูกปฏิเสธโดยตารางตัวกรอง ด้วย BED คอนทราสต์แชนเนล - คอนทราสต์สามารถสังเกตได้อย่างชัดเจนโดยการตรวจจับอิเล็กตรอนที่กระจายกลับมุมสูงหรือมุมต่ำ LED ช่วยให้ได้ภาพที่มีลักษณะเป็น 3 มิติ รวมถึงข้อมูลความหยาบของพื้นผิวจากเอฟเฟกต์การส่องสว่าง
ข้อบ่งชี้จำเพาะ
| ความละเอียด | 0.7 นาโนเมตร (15 กิโลโวลต์)
0.7 นาโนเมตร (1 กิโลโวลต์) 3.0 นาโนเมตร (5 กิโลโวลต์、WD10 มม.、5 นาโนเมตร) |
|---|---|
| การอวดอ้าง | x25 ถึง x1,000,000(SEM) |
| แรงดันเร่ง | 0.01 กิโลโวลต์เพื่อ 30 กิโลโวลต์ |
| โพรบปัจจุบัน | หลาย pA ถึง 500nA |
| เลนส์ปรับมุมรูรับแสง | Built-in |
| เครื่องตรวจจับ | ตัวตรวจจับอิเล็กตรอนส่วนบน (UED)
เครื่องตรวจจับอิเล็กตรอนตอนล่าง (LED) |
| ตัวกรองพลังงาน | ฟังก์ชันเปลี่ยนแรงดันตัวกรอง UED ในตัว |
| ลำแสงที่อ่อนโยน | Built-in |
| แสดงภาพ | พื้นที่แสดงภาพ 1,280 x 960 พิกเซล, 800 x 600 พิกเซล |
| ห้องแลกเปลี่ยนตัวอย่าง | Standard
ห้องแลกเปลี่ยนสิ่งส่งตรวจ TYPE2A |
| ขั้นตอนตัวอย่าง | ระยะขับมอเตอร์ 5 แกน
ระยะโกนิโอมิเตอร์แบบยูเซนตริกแบบเต็ม |
| XY | X:70มม. ย:50มม |
| เอียง | -5 ถึง + 70 ° |
| การหมุน | ° 360 |
| WD | 2 มม. ถึง 25 มม |
| ระบบอพยพ | สอง SIP, TMP, RP |
| การออกแบบที่เป็นมิตรกับสิ่งแวดล้อม | ระหว่างการทำงานปกติ :1.1 kVA
ระหว่างโหมดสลีป : 0.8 kVA |
ตัวเลือกหลัก
เอ็กซ์เรย์สเปกโตรมิเตอร์แบบกระจายพลังงาน (EDS)
เอ็กซ์เรย์สเปกโตรมิเตอร์แบบกระจายความยาวคลื่น (WDS)
ระบบการเลี้ยวเบนแบบกระจายกลับของอิเล็กตรอน (EBSD)
เครื่องตรวจจับคาโทโดลูมิเนสเซนซ์ (CLD)
การใช้งาน
แอปพลิเคชั่น JSM-7800FPRIME
การประยุกต์ใช้กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราดเพื่อการถ่ายภาพความคลาดเคลื่อนในเหล็ก
อิเล็กตรอนกระเจิงมุมสูงและอิเล็กตรอนกระเจิงมุมต่ำ
การจำแนกลักษณะแบคทีเรียอย่างรวดเร็วโดยใช้ ClairScope และ SpiralTOF
รูปภาพ
สินค้าที่เกี่ยวข้อง
miXcroscopy™ Linked Optical & Scanning Electron Microscopy System
ตัวจับยึดชิ้นงานทดสอบเดียวกันนี้ใช้ได้กับทั้งกล้องจุลทรรศน์แบบออปติคัลและกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด ด้วยเหตุนี้ ด้วยการจัดการข้อมูลบนเวทีด้วยซอฟต์แวร์เฉพาะ จึงเป็นไปได้ที่ระบบจะบันทึกตำแหน่งที่สังเกตได้ด้วยกล้องจุลทรรศน์แบบออปติคัล แล้วขยายพื้นที่เดียวกันเพิ่มเติมด้วยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราดเพื่อสังเกตโครงสร้างที่ละเอียดด้วยกำลังขยายที่สูงขึ้น & ความละเอียดสูงขึ้น เป้าหมายการสังเกตที่พบด้วยกล้องจุลทรรศน์แบบออปติคัลสามารถสังเกตได้อย่างลงตัวด้วยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราดโดยไม่ต้องค้นหาเป้าหมายอีกครั้ง ขณะนี้คุณสามารถเปรียบเทียบและตรวจสอบภาพกล้องจุลทรรศน์แบบออปติคัลและภาพกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราดได้อย่างราบรื่นและง่ายดาย
ข้อมูลเพิ่มเติม
คุณเป็นผู้เชี่ยวชาญทางการแพทย์หรือบุคลากรที่เกี่ยวข้องกับการรักษาพยาบาลหรือไม่?
โปรดทราบว่าหน้าเหล่านี้ไม่ได้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้ข้อมูลเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์แก่ประชาชนทั่วไป
