ปิด Btn

เลือกไซต์ภูมิภาคของคุณ

ปิดหน้านี้

JIB-4000 Focused Ion Beam Milling & Imaging System

ยกเลิก

เจไอบี-4000

JIB-4000 เป็นระบบการประมวลผลและสังเกตการณ์ลำแสงไอออนแบบโฟกัส (ระบบ FIB แบบลำแสงเดี่ยว) ที่มีคอลัมน์ไอออนประสิทธิภาพสูง ลำแสง Ga ion ที่เร่งแล้วจะถูกโฟกัสและนำไปใช้กับตัวอย่างเพื่อให้ใช้การสังเกตภาพ SIM ของพื้นผิวตัวอย่าง การกัด และการทับถมของวัสดุ เช่น คาร์บอนหรือทังสเตน นอกจากนี้ยังสามารถสร้างตัวอย่างภาคตัดขวางเพื่อสังเกตตัวอย่างภายในหรือตัวอย่างฟิล์มบางสำหรับการถ่ายภาพ TEM เมื่อเปรียบเทียบกับภาพ SEM ภาพ SIM จะแสดงความเปรียบต่างของแชนเนลที่เห็นได้ชัดเจนเนื่องจากความแตกต่างในการวางแนวคริสตัล เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการประเมินภาคตัดขวางของการเคลือบหลายชั้นและโครงสร้างโลหะ

คุณสมบัติ

คอลัมน์ FIB กำลังสูง

JIB-4000 รวมเอาคอลัมน์ FIB กำลังสูงที่มีกระแสลำแสงไอออนสูงสุด 60 nA ทำให้สามารถกัดงานตัดขวางได้อย่างรวดเร็ว การกัดความเร็วสูงด้วยกระแสไฟสูงมีประโยชน์อย่างยิ่งสำหรับการประมวลผลในพื้นที่ขนาดใหญ่ และสามารถสร้างหน้าตัดสำหรับการสังเกตได้ง่าย แม้ในขนาดมากกว่า 100 µm

FIB . ที่ใช้งานง่าย

JIB-4000 นำเสนอความสามารถในการทำงานที่ยอดเยี่ยมของคอลัมน์ FIB กำลังสูง แนวคิดการออกแบบสำหรับเครื่องมือนี้เป็นมิตรกับผู้ใช้ ด้วยรูปลักษณ์ภายนอกและ GUI ที่ออกแบบมาเพื่อสร้างระบบ FIB ที่ใช้งานง่าย เครื่องมือนี้สามารถใช้งานได้ง่ายแม้โดยผู้ใช้ที่ไม่ใช่ผู้เชี่ยวชาญ FIB ขนาดของเครื่องมือมีขนาดกะทัดรัด ซึ่งเล็กที่สุดในอุตสาหกรรม ทำให้สามารถติดตั้งได้ในตำแหน่งที่หลากหลายยิ่งขึ้น

เวทีคู่

การกำหนดค่ามาตรฐานของ JIB-4000 ประกอบด้วยแท่นวางตัวอย่างขนาดใหญ่เพื่อรองรับตัวอย่างจำนวนมาก นอกจากนี้ยังสามารถเพิ่มสเตจโกนิโอมิเตอร์แบบเข้าด้านข้างที่ช่วยให้ใส่ชิป TEM บนตัวจับได้โดยตรง ด้วยแท่นมอเตอร์ตัวอย่างจำนวนมาก จึงสามารถสังเกตพื้นผิวทั้งหมดของตัวอย่างจำนวนมากขนาด 20 มม. x 20 มม. การแลกเปลี่ยนชิ้นงานสามารถทำได้อย่างรวดเร็วผ่านห้องล็อคอากาศ สเตจโกนิโอมิเตอร์ทางเข้าด้านข้างเป็นสเตจเดียวกับที่ใช้กับระบบ JEOL TEM ดังนั้นจึงสามารถใช้ตัวจับยึดชิปออนกับระบบ JEOL TEM ได้ ทำให้ง่ายต่อการสลับระหว่างการกัด FIB และการสังเกตการณ์ TEM

ความมั่งคั่งของสิ่งที่แนบมา

มีสิ่งที่แนบมามากมายเพื่อรองรับการทำงานของ JIB-4000 รวมถึงระบบนำทาง CAD ที่มีประโยชน์สำหรับการใช้งานการปรับเปลี่ยนวงจร และระบบสแกนเวกเตอร์ที่มีประสิทธิภาพสำหรับการกัดรูปร่างพิเศษ ด้วยการเพิ่มอุปกรณ์ต่อพ่วงที่เหมาะสมเข้ากับ JIB-4000 ระบบสามารถรองรับการใช้งานนอกเหนือจากการเตรียมตัวอย่าง

ข้อบ่งชี้จำเพาะ

IBF

แหล่งกำเนิดไอออน แหล่งกำเนิดไอออนโลหะเหลวของ Ga
เร่งแรงดันไฟฟ้า 1 ถึง 30 kV (ขั้นละ 5 kV)
การอวดอ้าง ×60 (สำหรับค้นหาฟิลด์)
×200~×300,000
ความละเอียดของภาพ 5 นาโนเมตร (ที่ 30 กิโลโวลต์)
ลำแสงปัจจุบัน สูงสุด 60 nA (ที่ 30 kV)
รูรับแสงที่เคลื่อนย้ายได้ 12 ขั้นตอน (มอเตอร์ไดรฟ์)
รูปร่างของลำแสงไอออนระหว่างการกัด สี่เหลี่ยมผืนผ้า เส้น และจุด
ขั้นตอนตัวอย่าง โกนิโอมิเตอร์ 5 แกนของชิ้นงานตัวอย่างจำนวนมาก
X:±11 มม
Y:±15 มม
Z:0.5 ~ -23 มม
ต:-5 ~ +60°
องศา:360°
ขนาดชิ้นงานสูงสุด 28 มม. เส้นผ่านศูนย์กลาง (สูง 13 มม.)/ เส้นผ่านศูนย์กลาง 50 มม. (สูง 2 มม.)

ไฟล์แนบเสริม

  • ระบบหัวฉีดแก๊ส 2 (IB-02100GIS2)

  • คาร์ทริดสะสมคาร์บอน (IB-52110CDC2)

  • ตลับทังสเตนสะสม (IB-52120WDC2)

  • คาร์ทริดจ์การสะสมทองคำขาว (IB-52130WDC2)

  • สเตจ Goniometer ทางเข้าด้านข้าง (IB-01040SEG)

  • หัววัดกระแสไฟฟ้า (IB-04010PCD)

  • แผงการทำงาน (IB-05010OP)

  • ระบบนำทางบนเวที (IB-01200SNS)

  • FIB หัวจับ (EM-02210)

  • ตัวยึดตัวอย่างปริมาณมาก FIB (EM-02220)

  • ตัวยึดตัวอย่างจำนวนมาก FIB 1 (EM-02560FBSH1)

  • ตัวยึดตัวอย่างจำนวนมาก FIB 2 (EM-02570FBSH2)

  • อแดปเตอร์ตัวยึดชิ้นงานทดสอบ FE-SEM (EM-02580FSHA)

  • ตัวยึดกระสวย (EM-02280)

  • ระบบดูดบรรยากาศ (EM-02230)

ปิดหน้านี้
แจ้งให้ทราบ

คุณเป็นผู้เชี่ยวชาญทางการแพทย์หรือบุคลากรที่เกี่ยวข้องกับการรักษาพยาบาลหรือไม่?

ไม่

โปรดทราบว่าหน้าเหล่านี้ไม่ได้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้ข้อมูลเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์แก่ประชาชนทั่วไป

ติดต่อ

เจอีโอแอล ให้บริการสนับสนุนที่หลากหลายเพื่อให้แน่ใจว่าลูกค้าของเราสามารถใช้ผลิตภัณฑ์ของเราได้อย่างสบายใจ
โปรดติดต่อเรา